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氮化鋁加熱器 氮化鋁陶瓷 ALN Heater  發熱片 25*25*2.5

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氮化鋁陶瓷加熱器 ALN Heater
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12寸 半導體晶圓,芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤

12寸 半(ban)導體晶圓,芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化(hua)鋁(lv)陶瓷面(mian) 靜電卡盤(pan)

12寸 半導體晶圓,芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤
 氮化鋁陶瓷 半導體用氮化鋁陶瓷加熱器 ALN Ceramic Heating for semiconductor 靜電卡盤 ESC E-chuck

氮化(hua)鋁陶瓷 半導體用氮化(hua)鋁陶瓷加熱器 ALN Ceramic Heating for semiconductor 靜電卡盤 ESC E-chuck

氮化鋁陶瓷加熱器(AlN Ceramic Heating for Semiconductor),使用高導熱AlN,通過電阻加熱元件的均勻燒結提供出色的溫度一致性,并顯著減少金屬污染和雜質。 具有優異的耐熱性,高機械強度,耐磨性和小介電損耗。 AlN襯底的表面非常光滑,孔隙率低。 與氧化鋁基材相比,氮化鋁具有較高的導熱性,其高約7至8倍。 ALN襯底是優異的電子封裝材料。ALN襯底應用廣泛,包括薄膜和厚膜微電子,大功率和高頻電路RF /微波部件和電容器或電阻器等。
PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤

PVD、CVD用氮化(hua)鋁陶(tao)瓷面 靜電卡盤

半導體晶圓,芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤
半導體 精密陶瓷 多孔陶瓷真空吸盤  氧化鋁陶瓷 碳化硅陶瓷Ceramic Vacuum Table

半導(dao)體 精密陶(tao)瓷(ci) 多孔(kong)陶(tao)瓷(ci)真空吸(xi)盤 氧化(hua)鋁陶(tao)瓷(ci) 碳化(hua)硅(gui)陶(tao)瓷(ci)Ceramic Vacuum Table

半導體 精密陶瓷 多孔陶瓷真空吸盤 氧化鋁陶瓷 碳化硅陶瓷 訂制各種規格微孔陶瓷,氧化鋁陶瓷。 形狀圓形,方形,回形,L形等勻可訂做,厚度3MM到10MM不等。
晶圓劃片刀

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主要切割產品: 硅晶片、半導體化合物晶片(GaAs、GaP等)、氧化物晶片(LiTaO3等)、芯片LED基板、各種半導體封裝元件
半導體 esc靜電吸盤 PVD加熱盤

半(ban)導體 esc靜電吸盤 PVD加(jia)熱盤

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空氣凈化


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